依据美国联邦政府颁布的标准[Federal Standard (FS) 209E, 1992]，可将无尘室分为六级。

分别是1级、10级、100级、1000级、10000级、100000级。

如果无尘室的等级只用尘粒数目来叙述，则可假设尘粒的尺寸为0.5µm，例如，1级、10级、100级无尘室*大尘粒数目分别小于或等于1颗、10颗、100颗，如果尘粒尺寸不是0.5µm，无尘室等级应以在一特定尘粒尺寸的级数来表示。

例如：10级在0.2µm(尘粒尺寸在0.2µm或更大下，密度不大于75颗/立方英)，1级在0.1µm(尘粒尺寸在0.1µm或更大下，密度不大于35颗/立方英)而集成电路制造所需的无尘室之洁净度必须优于1000级。

为保持无尘室的洁净度，进出的人员有一定的穿著规定；10000与100000级，必须穿著长袍无尘衣、无尘鞋、带帽子与面罩；1000级(含)以上，需穿著特殊的洁净连身衣、无尘鞋将全身裹住，并带上手套和面罩，下表为无尘室清洁度的定义：

所谓的无尘室是一个人造的环境，里面含有的粒子远低于一般的环境，随着集成电路技术的快速成长，也增加了对制造环境(无尘室)洁静度的需求，在工业上即使粒子之尺寸小于1微米，也可能阻碍产品的运作或降低其寿命。

由于奈米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断的增加，尘粒更容易使芯片失效或可靠度恶化。例如当金属尘粒地落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。又如果有酸性的离子化合物尘粒掉在金属导线上，可能将其腐蚀，所以无尘室为集成电路制造的要素。