高精度光刻--实现如此简单

使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic*的π-Photon 172nm光源，α -line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统无法实现的新处理能力。α-line是一款通用型手动对准和曝光系统，使准直机( aligner)的应用领域不再局限于微电子和传统光刻胶。采用技术，可以直接在各种有机物例如PMMA、ABS或其他有机材料上进行光刻，使α -line成为MEMS、微流控、生物工程和生命科学等研究领域的理想工具。

特点

•高分辨率对准和曝光系统，小型、桌面式
•经典设计，高精度、高稳定性、操作简单
•扩展光刻胶和衬底的材料范围，打破传统光刻工艺的限制
•一致的、高质量的曝光结果，零培训、即可操作
•无需超净间、任何地点都可以光刻；低功耗、可选电池供电
•搭建即可运行，牢固的机械结构和光学器件，无需额外维护和校准
•应用领域: 半导体、微流控、生物芯片、光学器件，及更多应用领域

应用

•高精度多层光刻/套刻
•有机物直接光刻和图形化
-微流控、生物芯片
-光学元件、薄膜器件
•表面图形化和表面能改性
•表面性能选择和筛选