筱晓光子 无掩膜数字光刻机 MCML-110A
产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻，易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟
500um小线宽
可灰度曝光（128阶）
尺寸小巧，可配合用循环装置产生内部洁净空间
应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作
教学、科研
参数
| MCML-110A | MCML-120A | |
| Wavelength 波长 | 365nm | 365nm |
| Max. frame 大帧 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
| Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
| Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
| Max exposure 大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
| Alignment accuracy 对准精度 | <200nm | <100nm |
| field curvature 场曲率 | < 1 um | < 1 um |
| Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
| Input file 输入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
| Z level accuracy Z精度 | <1 um | <1 um |
| Environment 环境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻，易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟
500um小线宽
可灰度曝光（128阶）
尺寸小巧，可配合用循环装置产生内部洁净空间
应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作
教学、科研
参数
| MCML-110A | MCML-120A | |
| Wavelength 波长 | 365nm | 365nm |
| Max. frame 大帧 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
| Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
| Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
| Max exposure 大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
| Alignment accuracy 对准精度 | <200nm | <100nm |
| field curvature 场曲率 | < 1 um | < 1 um |
| Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
| Input file 输入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
| Z level accuracy Z精度 | <1 um | <1 um |
| Environment 环境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
更新时间：2023/5/24 17:35:26
所有评论仅代表网友意见，与本站立场无关。