CIF推出的CPC系列生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，产品稳定，样品处理重复性一致性好。
PLC工控机控制整个清洗过程，实时参数状态直观显示。
整个清洗过程全自动进行。
处理高效均匀，效率高，工艺重复性好。
多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气体等气体。
合理的结构设计，设备占用空间小。
可处理各种材质、形状、尺寸样品。
样品处理温度低，无热损伤和热氧化。
使用成本低、耗损小。
产品性能稳定。安装与维护简便方便。
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