CIF推出全新一代CPC系列桌面型、可中试生产、模拟生产条件的等离子体清洗设备,几乎具备等离子体清洗设备所有的功能。具有较大的腔体尺寸和样品处理面积,使用成本低,性价比高,易维护,处理快速高效,特别适合于大学,科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
产品特点:
可模拟生产条件,便于小批量中试生产。
桌面型,占用空间小。
性能稳定,操作简便,使用成本低,易于维护,性价比高。
有效处理面积大,可处理8寸硅片去胶等应用。
可处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品,进行清洗和改性。
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